BiNY一套光学装置系统获发明专利授权（ZL202011230681.2）
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作者:binygrp
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发布时间: 1001天前
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BiNY一套光学装置系统获发明专利授权，以解决特定工业应用环境下超精准配光技术难题。
BiNY一套光学装置系统获发明专利授权，以解决特定工业应用环境下超精准配光技术难题。
随着全球范围内“碳中和”共识的形成，BiNY研发团队以技术革新为主要手段，帮助企业用户在不增加设备资本支出（CAPEX）的前提下，最大程度的实现照明领域的节能减排，尽早达到“碳中和”愿景。
Footprint for Carbon Neutrality
本次专利创新，就是在最小照明功率密度的硬指标要求下，通过开发全新的光学装置以及精确的二次配光方案，将特定应用环境下的工业照明的总功率降低30%以上，以促使“碳中和”目标的最快实现。
BiNY Ultra-precision Light Distribution Mechanism
